Setelah memperoleh mentahan dari pasir dan memisahkan silikonnya, materiil yang kelebihan dibuang. Lalu, silikon dimurnikan secara bertahap hingga mencapai kualitas "semiconductor manufacturing quality", atau biasa disebut "electronic grade silicon".
Pemurnian ini menghasilkan sesuatu yang sangat dahsyat dimana "electronic grade silicon" hanya boleh memiliki satu "alien atom" di tiap satu milyar atom silikon.
Setelah tahap pemurnian silikon selesai, silikon memasuki fase peleburan. Dari gambar di atas, kita bisa melihat bagaimana kristal yang berukuran besar muncul dari silikon yang dileburkan. Hasilnya adalah kristal tunggal yang disebut "Ingot".
Kristal tunggal "Ingot" ini terbentuk dari "electronic grade silicon". Besar satu buah "Ingot" kira-kira 100 Kilogram atau 220 pounds, dan memiliki tingkat kemurnian silikon hingga 99,9999 persen.
Setelah itu, "Ingot" memasuki tahap pengirisan. "Ingot" di iris tipis hingga menghasilkan "silicon discs", yang disebut dengan "Wafers". Beberapa "Ingot" dapat berdiri hingga 5 kaki.
"Ingot" juga memiliki ukuran diameter yang berbeda tergantung seberapa besar ukuran "Wafers" yang diperlukan. CPU jaman sekarang biasanya membutuhkan "Wafers" dengan ukuran 300 mm.
Processor Intel dengan teknologi 45nm, menggunakan "Wafers" dengan ukuran 300mm (12 inch), sedangkan saat pertama kali Intel membuat Chip, Intel menggunakan "Wafers" dengan ukuran 50mm (2 inch).
Daerah paling kuat atau tahan di "Wafer" menjadi fleksibel dan rapuh akibat efek dari sinar "Ultra Violet". Pencahayaan menjadi berhasil dengan menggunakan pelindung yang berfungsi seperti stensil. Saat disinari sinar "Ultra Violet", lapisan pelindung membuat pola sirkuit.
Di dalam pembuatan Processor, sangat penting dan utama untuk mengulangi proses ini berulang-ulang hingga lapisan-lapisannya berada di atas lapisan bawahnya, begitu seterusnya. Lensa di tengah berfungsi untuk mengecilkan cahaya menjadi sebuah fokus yang berukuran kecil.
Setelah disinari sinar "Ultra Violet", bidang "Photo Resist" benar-benar hancur lebur. Gambar di atas menampakan pola "Photo Resist" yang tercipta dari lapisan pelindung. Pola ini merupakan awal dari "transistors", "interconnects", dan hal yang berhubungan dengan listrik berawal dari sini.
Sumber :
denny0214 - denny0214.blogspot.com
0 komentar:
Posting Komentar